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熱工處理設(shè)備LPCVD

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北京環(huán)創(chuàng)科學(xué)儀器有限公司是一家專注于環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室儀器、超聲波清洗設(shè)備及電子工藝設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造和銷售為一體的個(gè)性化企業(yè)。公司管理層由長(zhǎng)期從事環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備及設(shè)計(jì)工藝、生產(chǎn)管理和市場(chǎng)營(yíng)銷的高級(jí)專業(yè)人員組成,是一只經(jīng)驗(yàn)豐富,勇于創(chuàng)新,精誠(chéng)協(xié)作的團(tuán)隊(duì);致力于為客戶提供創(chuàng)新設(shè)計(jì)、環(huán)保、安全、節(jié)能、可靠品質(zhì)的解決方案。

公司主要銷售:環(huán)境試驗(yàn)儀器設(shè)備、理化室實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備、超聲波清洗設(shè)備、恒溫老化設(shè)備、工業(yè)熱工設(shè)備、工業(yè)冷水設(shè)備、計(jì)量檢定裝置;并具有設(shè)計(jì)制造各種非標(biāo)準(zhǔn)、大型、超大型試驗(yàn)設(shè)備的技術(shù)生產(chǎn)能力。

公司具備有與航空、航天、兵工、船舶、通信、機(jī)械、石油、機(jī)車車輛、電工電子、高等院校、制藥、合成材料、化工等領(lǐng)域長(zhǎng)期合作的經(jīng)驗(yàn);熟悉這些領(lǐng)域里所有的試驗(yàn)方法,以及相關(guān)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);承接對(duì)設(shè)備系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、制造及售后全套的優(yōu)質(zhì)服務(wù),保證了產(chǎn)品經(jīng)久耐用、安全可靠、高效的精良品質(zhì)。

公司本著“以質(zhì)量贏得市場(chǎng),以高效服務(wù)贏得口碑”的經(jīng)營(yíng)理念,嚴(yán)守自己的質(zhì)量保證體系與售后服務(wù)體系。因此,公司在國(guó)內(nèi)建立了*的銷售服務(wù)網(wǎng)絡(luò);除北京外,還在石家莊、濟(jì)南、西安、武漢、蘇州、成都、重慶、深圳等大城市設(shè)立了辦事處與客戶攜手共創(chuàng)的產(chǎn)品和貢獻(xiàn)的服務(wù)。

公司傳承和弘揚(yáng)“科學(xué)、誠(chéng)信、創(chuàng)新”的精神,堅(jiān)持為客戶貢獻(xiàn)高品質(zhì)產(chǎn)品,高效率服務(wù)!我們實(shí)事求是,讓“科學(xué)、現(xiàn)代、環(huán)保、高效”的環(huán)創(chuàng)與您一道共創(chuàng)輝煌!

綜合穩(wěn)定性試驗(yàn)箱
詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【LPCVD產(chǎn)品簡(jiǎn)介】LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜
熱工處理設(shè)備LPCVD 產(chǎn)品信息
詳細(xì)說明

生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:

【LPCVD產(chǎn)品簡(jiǎn)介】

  LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大,故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率,并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

【產(chǎn) 品 特 點(diǎn)】

◆對(duì)工藝時(shí)間、溫度、氣體流量、閥門動(dòng)作、反應(yīng)室壓力實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制。                                    

◆采用進(jìn)口壓力控制系統(tǒng),閉環(huán)控制,穩(wěn)定性強(qiáng)。 

◆采用進(jìn)口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門,確保氣路氣密性。   

◆具有*的報(bào)警功能及安全互鎖裝置。

◆具有良好的人機(jī)界面,靈活的工藝性能。

◆采用工控機(jī)技術(shù),具有可靠地恒壓調(diào)整控制功能。

【主要技術(shù)指標(biāo)】

●適用硅片尺寸: 4~6"                                

●工作溫度及精度: 350 ~ 1000℃±1℃                    

●恒溫區(qū)長(zhǎng)度:700mm  (可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì))                      

●升溫速率:0 ~ 15℃/分鐘  可調(diào)             

●系統(tǒng)極限真空度:0.8 Pa                             

●工作壓力范圍:30 ~ 200Pa 可調(diào)         

●淀積膜種類:Si3N4  SiO

●淀積膜均勻性:片內(nèi)  <±3%;  片間  <±3%;  批間  <±4%

●淀積速率:200 ~300 ?/min (與淀積材料和工藝有關(guān))

●操作方式: 手動(dòng)、自動(dòng)

●滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝

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