總代理德國thyracont鍍膜真空計
一、Thyracont品牌核心優(yōu)勢
德國Thyracont成立于1970年,50余年專注真空測量技術(shù)創(chuàng)新,以高精度、耐用性及智能化為核心競爭力。
Thryacont提供高精度的皮拉尼壓阻復(fù)合真空計、皮拉尼熱陰極、皮拉尼冷陰極復(fù)合真空計,精度高,滿足PVD鍍膜(濺射鍍膜)的高精度真空度檢測。
l 皮拉尼/熱陰極:VSH 1000到5x10~10mbar
l 皮拉尼/冷陰極:VSM 1000到5x10~9mbar
l 壓阻/皮拉尼:VSR 1200到1x 10~4mbar
l 皮拉尼:VSP1000到1x10~mbar
l 壓阻規(guī):VSC43 1400到1mbar Piezo
l 電容規(guī):VCC200 200到1x 10mbar
真空表優(yōu)勢:
• 具有16bar的超壓穩(wěn)定性,無需超壓閥,節(jié)約成本
• 響應(yīng)速度快,精度高
• 防護等級高可達IP54
• 法蘭處耐溫度,高達160攝氏度
• 輸出信號:4-20mA,0- 10v, RS485, EtherCAT, Profinet滿足不同的控制系統(tǒng)連接
l PVD鍍膜的核心流程節(jié)點
2 PVD鍍膜流程主要分為粗抽階段、高抽階段、工藝沉積階段、后處理階段四個核心節(jié)點,每個節(jié)點對真空度的測量需求不同:
2 粗抽階段:從大氣壓力抽至102~10?1Pa,需要快速監(jiān)測低真空區(qū)間的壓力變化,判斷粗抽是否完成
2 高抽階段:從10?1Pa抽至10??~10??Pa,需要精準(zhǔn)監(jiān)測高真空/超高真空區(qū)間的壓力,確保本底真空達標(biāo)
2 工藝沉積階段:根據(jù)不同工藝(蒸發(fā)/濺射/離子鍍)維持特定真空度,可能需要通入反應(yīng)氣體,需動態(tài)監(jiān)測真空度波動
2 后處理階段:鍍膜完成后充氣或泄壓,需監(jiān)測真空度從高到低的變化,確保安全操作
PVD濺射鍍膜:
l 標(biāo)準(zhǔn)配置(3臺真空計)
• 1臺皮拉尼電阻真空計:負責(zé)粗抽階段的低真空測量---VSR53/VCR53
• 1臺冷、熱陰極電離真空計:負責(zé)高抽階段的高真空測量---VSM77/VSH87
• 1臺電容式薄膜真空計:負責(zé)工藝沉積階段的動態(tài)真空度監(jiān)測(量程10?~10?3Pa)
• 適用場景:中型工業(yè)PVD生產(chǎn)線、對薄膜質(zhì)量要求較高的裝飾鍍膜或功能鍍膜工藝
l 優(yōu)勢:電容式薄膜真空計的響應(yīng)速度快、抗污染能力強,能精準(zhǔn)監(jiān)測工藝沉積階段因通入反應(yīng)氣體導(dǎo)致的真空度波動,保證薄膜成分均勻
l 劣勢:仍無法同時監(jiān)測多個腔體的真空度,若設(shè)備具有多個沉積腔體,可能存在測量盲區(qū)
l 高配置(4臺及以上真空計)
• 2臺皮拉尼電阻真空計:分別負責(zé)粗抽階段和后處理階段的低真空測量,避免交叉污染—VSR53/VSR54
• 1臺熱陰極電離真空計:負責(zé)高抽階段的高真空測量---VSH87
• 1臺冷陰極電離真空計:負責(zé)工藝沉積階段的超高真空測量---VSM77
• 額外的電容式薄膜真空計(按需配置):每個沉積腔體配置1套,獨立監(jiān)測各腔體的真空度
• 適用場景:大型多腔體PVD設(shè)備、半導(dǎo)體晶圓鍍膜等對真空度精度要求高的高工藝
l 優(yōu)勢:多臺真空計分工明確,獨立監(jiān)測不同階段和腔體的真空度,確保每個環(huán)節(jié)的真空度精度都能滿足工藝要求,避免因單一真空計故障導(dǎo)致生產(chǎn)停滯
l 劣勢:設(shè)備成本和維護成本較高,對操作人員的專業(yè)要求也更高
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