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河南酷斯特儀器科技有限公司
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更新時間：2025-01-11 13:06:33瀏覽次數(shù)：102次
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一、設(shè)備用途 真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景
一、設(shè)備用途
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備特點
1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。
2·冶煉溫度高，設(shè)計溫度可達(dá)2100及以上，專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮專用IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，極限可達(dá)5.0*10-4pa。
三、主要技術(shù)參數(shù)
1·設(shè)備型號：KZGF-0.25
2、額定功率：65Kw
3、容量（以鈦計）：0.25Kg
4、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
5、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa
6、控制方式：模擬屏+電動控制（可擴展plc+觸摸屏）
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