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當前位置:安徽吸收譜儀器設(shè)備有限公司>> HC-XAFS-T半自動熱催化原位池廠家

半自動熱催化原位池廠家

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號HC-XAFS-T

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地合肥市

更新時間:2025-08-20 15:02:44瀏覽次數(shù):332次

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熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計。工作電極(WE)放置在透視窗口處,從而使X射線能夠穿透工作電極。

型號HC-XAFS-T

熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計。工作電極(WE)放置在透視窗口處,從而使X射線能夠穿透工作電極。

●此裝置主體為高強度鋼結(jié)構(gòu),可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓(配置小窗口可以實現(xiàn)更高壓力);

●實現(xiàn)1℃精確控溫;

●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試;

●靈活控制階梯式升溫,并可通入各種反應(yīng)氣氛,實時監(jiān)測升溫條件下物相變化;

●光窗直徑:13mm; 光學窗口選用Be窗;樣品片為粉末狀圓片;

●配循環(huán)冷卻裝置,循環(huán)水溫控制在25oC。



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