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7A10鋁棒低價(jià)

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更新時(shí)間:2019-10-28 15:38:15瀏覽次數(shù):491

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主打型號(hào)有:7075、7050、7A04、LY12、2024、2014、2A12、LY11、2017、6061、6082、6063、6A02、
5052、5083、5A02、5A05、5A06、3A21、3003、1100、1050、1060、QC-10、QC-7、0、ALUMOLD;
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(1)陽極氧化工藝

普通陽極氧化可獲得厚度為520μm、吸附性較好的膜層,該法的槽電壓低、維護(hù)方便,節(jié)約能源、成本較低,允許雜質(zhì)含量范圍較寬。它主要用于鋁件的防護(hù)和裝飾,但不適用于孔大的鑄鋁件、點(diǎn)焊和鉚接組合件。常用的有直流電解和交流電解兩種工藝,直流法采用100200gL,陽極電流密度為0.81.5A/dm2,溫度為l525℃,電壓l025V,時(shí)間2040min;交流法采用l0%20%,陽極電流密度為13A/dm2,溫度為20℃,電壓2050V,時(shí)間2040min

(2)硬質(zhì)陽極氧化

硬質(zhì)陽極氧化又稱厚層陽極氧化,氧化膜的厚度可達(dá)250μm。膜層具有硬度大、耐磨、絕緣、耐熱、耐蝕等特點(diǎn)。表72列出硬質(zhì)氧化膜與普通氧化膜特征比較。獲得硬質(zhì)陽極氧化膜可采用的電解液很多,常用的有、草酸、丙二酸、蘋果酸、磺基水楊酸等。常用直流電源,還可采用交流、直流疊加及各種脈沖電流。為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜,在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌及較低的溫度,一般保持在一5+10℃范圍內(nèi)。表73列出硬質(zhì)陽極氧化工藝規(guī)范。

對(duì)于硬質(zhì)氧化工藝來說,的濃度對(duì)氧化過程影響*,當(dāng)?shù)臐舛容^高時(shí),氧化膜的生長(zhǎng)速度慢,氧化膜硬度有所降低,孔隙度大。但濃度較低時(shí),槽液壽命短,零件易被燒壞。為了增加氧化膜的厚度,添加一定量的草酸效果較好,且溶液中不應(yīng)有氯離子和鎢鹽、鎂鹽。

溫度和電流密度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素。溫度上升,膜的厚度下降,溫度還應(yīng)根據(jù)不同的合金來定。若電流密度太小,氧化膜生成速度緩慢,但過高時(shí)溫度升高快,使零件產(chǎn)生“腐蝕”而“燒損”。硬質(zhì)氧化的始末電壓與時(shí)間對(duì)氧化膜質(zhì)量也有很大影響,應(yīng)根據(jù)鋁合金成分來確定。對(duì)于含銅小于2.5%的鋁合金,開始電壓為57V,不應(yīng)大于10V;對(duì)于含銅大于2.5%又含錳的合金,開始電壓為2024V,終了電壓根據(jù)所需電流密度而定。(3)鉻酸陽極氧化

鉻酸陽極氧化膜層較薄,大致在25μm,膜層較軟有彈性,抗蝕性不如陽極氧化膜,不透明,顏色由灰白至深灰色,不易著色??紫渡伲挥梅忾]處理。此種氧化膜適用于精密零件,很少作裝飾用。膜層與有機(jī)材料結(jié)合力好,可作為良好的涂裝底層,并廣泛用于橡膠粘接件與蜂窩結(jié)構(gòu)的面板,多用于航空與航天工業(yè)。電解液組成及工藝條件為鉻酐50100gL,溫度35℃±2℃,槽電壓050V,時(shí)間3060min,陽極電流密度(平均)0.30.5A/m2,對(duì)于含銅高的鋁合金,溫度可降至2530℃,電壓040V。

 

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