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電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EB-PVD）

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公司名稱惠州市付氏高科有限公司
品牌
型號
所在地惠州市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2025/7/19 8:21:35
訪問次數(shù)177

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惠州市付氏高科有限公司前身茂華科技發(fā)展有限公司，成立于2000年1月，是一家專門從事材料設(shè)備開發(fā)、組裝、技術(shù)咨詢、經(jīng)營銷售的高科技企業(yè)。利用我們自身優(yōu)勢將生產(chǎn)、檢測設(shè)備引用國內(nèi)，為客戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EB-PVD）產(chǎn)品概述:電子束物理氣相沉積系統(tǒng)EB-PVD技術(shù)是以電子束作為熱源的一種蒸鍍方法，即利用高速運動的電子轟擊靶材表面，使材料升溫變成蒸汽而凝聚在基材表面的一種表面加工方法

電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EB-PVD）產(chǎn)品信息

電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EB-PVD）

產(chǎn)品概述:

電子束物理氣相沉積系統(tǒng)EB-PVD技術(shù)是以電子束作為熱源的一種蒸鍍方法，即利用高速運動的電子轟擊靶材表面，使材料升溫變成蒸汽而凝聚在基材表面的一種表面加工方法。被廣泛用于制備熱障涂層、耐磨耐蝕涂層、高溫合金等鍍層材料，在航天航空領(lǐng)域有廣泛的用途。

特點:

電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EBPVD）
1）蒸發(fā)速率較高，幾乎可以蒸發(fā)所有物質(zhì)，可制備任意成分的鍍層材料。

2）電子束電流大小易于調(diào)節(jié)，束斑形狀、尺寸和位置易于控制，有利于精確控制鍍層的厚度。

3）整個過程是在真空中進行的，可以防止鍍層材料被污染或氧化。

4）在控制好工藝的條件下，可使鍍層材料與靶材中的相和元素含量保持一致，可以精確控制鍍層材料的化學組分。

5）蒸汽粒子在基材表面結(jié)晶生長，使鍍層材料和基材具有良好的結(jié)合力。

6）工藝參數(shù)：

參數(shù)名稱	數(shù)值
1圓柱形零件尺寸，mm,不大于: - 直徑 - 長度	220 750
2. 零件在水平桿上旋轉(zhuǎn)速度，轉(zhuǎn)/分鐘	1-25
3. 坩堝數(shù)量，件	3
4. 坩堝內(nèi)直徑，mm	70
5. 蒸發(fā)靶材長度，mm,不大于	500
6. 靶材進給速度，mm/min,范圍	0,5 – 350
7. 坩堝上表面到零件旋轉(zhuǎn)軸或者沉積面的距離，mm	350
8. 電子槍數(shù)量及額定功率，n х kw: - 用于坩堝蒸發(fā)材料 - 用于預加熱零件電子槍類型-冷陰極氣體放電	3х100 1х30
9. 使用功率，KW,不超過 - 變壓器 - 輔助設(shè)備	450 80
10. 額定工作加速電壓，kw	30
11. 工作真空度，Pa(Torr),范圍	6х10^-3 – 6х10^-2 (5х10^-5 – 5х10^-4)
12. 額定三相交流電電源電壓 50Hz, V	380
13.水冷壓力，Pa(kg/cm2) 范圍	3х10⁵ – 4х10⁵ (3 – 4)
14. 水冷流量（溫度150С），m³/h，不超過	15
15. 熱水壓力(60 – 800С), Pa(kg/cm2),范圍	3х10⁵ – 4х10⁵ (3 – 4)
16. 熱水流量，m³/h，不超過	0,5
17. 壓力4х10⁵ – 5х10⁵ Pa時空氣流量，m3/h，不超過	1
18.: 設(shè)備總體尺寸, mm,不超過 -長度 -寬度 -高度	11500 8500 4000
19. 設(shè)備質(zhì)量（帶電源），t,不超過	21,7