










產(chǎn)品特色:
1.涂布速度快、精度高、濕厚均勻;
2.涂布系統(tǒng)封閉,在涂布過程中能防止污染物進(jìn)入,
3.漿料利用率高、能夠保持漿料性質(zhì)穩(wěn)定,可同時(shí)進(jìn)行多層涂布
4.適應(yīng)性強(qiáng),能適應(yīng)不同漿料粘度和固含量范圍速度同步。
優(yōu)勢
可涂不同粘度的各種材料
涂層厚度從20納米到150微米以上
良好的涂層稠度:通常優(yōu)于±3%
高效/材料利用率:材料利用率可達(dá)95%
可滿足不同需求:從研發(fā)到小批量試產(chǎn)、量產(chǎn)
該工藝具有較高的可靠性和魯棒性,收率可達(dá)95%。
適用于S2S和R2R處理模式
矩形陣列的鍍膜工藝可以在一個(gè)工藝周期內(nèi)實(shí)現(xiàn)
工藝參數(shù)
涂層間隙控制:高精度、動態(tài)控制涂布頭高度(Z軸)
模具運(yùn)動控制:精確控制模具運(yùn)動軌跡(包括加速和減速參數(shù))在涂層方向(X軸)
模具設(shè)計(jì):高稠度、化學(xué)相容性、低充模量、涂條的模具設(shè)計(jì)與制造
涂層控制:涂層速率(穩(wěn)定涂層)和涂層輪廓(前后邊緣)的高精度數(shù)字控制
控制軟件:所有配方參數(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)控與反饋控制、數(shù)據(jù)采集與分析。




























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